顯微分光光度計

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更新時間: 2013-09-17

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顯微分光光度計,是用來描述薄膜、塗層厚度超過1微米的物件的光學性能的。

  

  產品簡介:

  顯微分光光度計(Micro-Photometry、Micro Spectrophotometry)是用來描述薄膜、塗層厚度超過1微米的物件的光學性能的。顯微分光光度計同樣也被稱作為:microreflectometer、micro-reflectometer、microspectrometer、microphotometer(Spectroscopic)、microspectroscopic photometer等等。依靠著angstrom公司獨特的專業設計,MSP系列產品有著在線的實時數字成像系統,以及強大的數字編輯能力、擁有者反射率、透射率及吸收光譜等測量工具。可以在毫秒的時間內就完成數據採集。在進行諸如反射、透射、塗層厚度、折射率(光學常數)等光學性能改變的運動學研究方面,TFProbe軟體允許用戶設立加熱階段或冷卻階段。在各種MSP型號的可移動X-Y平台或ρ-θ平台中都可以用到自動成像功能,在使用螺桿的電動調焦功能上也同樣的能使用此功能。儀器所能測量的波長範圍通常是用戶考慮的最重要的一個參數,Angstrom公司的MSP產品,其測量波長覆蓋了從深紫外光(DUV)到近紅外光的範圍。這個波長範圍應當諸如薄膜或塗層的厚度、反射或透射的典型波長範圍等因素決定。

  產品特點:

  基於視窗結構的軟體,很容易操作 先進的深紫外光學及堅固耐用的抗震設計,以確保系統能發揮出最佳的性能及最長的正常運行時間 基於陣列設計的探測器系統,以確保快速測量 低價格,攜帶型及靈巧的操作檯面設計 在很小的尺寸範圍內,最多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率 在毫秒的時間內,可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數 能夠用於實時或在線的監控光譜、厚度及折射率 系統配備大量的光學常數數據及資料庫 對於每個被測薄膜樣品,用戶可以利用先進的軟體功能選擇使用NK資料庫、也可以進行色散或者複合模型(EMA)測量分析 系統集合了可視化、光譜測量、模擬、薄膜厚度測量等功能於一體 能夠應用於不同類型、不同厚度(最厚可測200mm)的基片測量 使用深紫外光測量的薄膜厚度最低可至20 Ǻ 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面 先進的成像軟體可用於諸如角度、距離、面積、粒子計數等尺寸測量 各種不同的選配件可滿足客戶各種特殊的應用 系統配置:

  型號:MSP300R 探測器:2048像素的CCD陣列 光源:直流穩壓鹵素燈 光傳送方式:光纖 自動的台架平台:特殊處理的鋁合金操作平台,手動調節移動範圍為75mm×55mm 物鏡有著長焦點距離:4×,10×,50× 通訊介面:USB的通訊介面與計算機相連 測量類型:反射/透射光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數 計算機硬體:英特兒酷睿2雙核處理器,200G硬碟、DVD刻錄機,19」LCD顯示器 電源:110–240V AC/50-60Hz,3A 尺寸:16』x16』x18』 (操作桌面設置) 重量:120磅總重 保修:一年的整機及零備件保修 基本參數:

  波長範圍:400nm到1000 nm 波長解析度: 1nm 光斑尺寸:100µm (4x), 40µm (10x), 8µm (50x) 樣品尺寸:標準150×150mm 基片尺寸:最多可至20mm厚 測量厚度範圍: 10nm 到25 µm 測量時間:最快2毫秒 精確度:優於0.5%(通過使用相同的光學常數,讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較) 重複性誤差:小於2 Ǻ 應用領域:

  半導體製造(PR,Oxide, Nitride..) 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..) 醫學,生物薄膜及材料領域等 油墨,礦物學,顏料,調色劑等 醫藥及醫藥中間設備等 光學塗層,TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 半導體化合物 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜 非晶體,納米材料和結晶硅 產品可選項:

  波長可擴展到遠深紫外光(MSP100)或者近紅外光範圍(MSP500) 高功率的深紫外光用於小斑點測量 可根據客戶的特殊需求來定製 在動態實驗研究時,可根據需要對平台進行加熱或致冷 可選擇的平台尺寸最多可測量300mm大小尺寸的樣品 更高的波長範圍的解析度可低至0.1nm 各種濾光片可供各種特殊的需求 可添加應用於熒光測量的附件 可添加用於拉曼應用的附件 可添加用於偏光應用的附件 自動成像平台最多可對300mm的晶片進行操作

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