掃描電子顯微鏡

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更新時間: 2013-09-18

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掃描電子顯微鏡的製造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時,也可產生電子-空穴對、晶格振動 (聲子)、電子振蕩 (等離子體)。原則上講,利用電子和物質的相互作用,可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息,如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。掃描電子顯微鏡正是根據上述不同信息產生的機理,採用不同的信息檢測器,使選擇檢測得以實現。如對二次電子、背散射電子的採集,可得到有關物質微觀形貌的信息;對x射線的採集,可得到物質化學成分的信息。正因如此,根據不同需求,可製造出功能配置不同的掃描電子顯微鏡。

掃描電子顯微鏡 -簡介
掃描電子顯微鏡掃描電子顯微鏡
掃描電子顯微鏡的製造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時,被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時,也可產生電子-空穴對、晶格振動 (聲子)、電子振蕩 (等離子體)。原則上講,利用電子和物質的相互作用,可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息,如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。掃描電子顯微鏡正是根據上述不同信息產生的機理,採用不同的信息檢測器,使選擇檢測得以實現。如對二次電子、背散射電子的採集,可得到有關物質微觀形貌的信息;對x射線的採集,可得到物質化學成分的信息。正因如此,根據不同需求,可製造出功能配置不同的掃描電子顯微鏡。
掃描電子顯微鏡 -三大組成

真空系統,電子束系統以及成像系統。(以下提到掃描電子顯微鏡之處,均用SEM代替)

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1、真空系統
真空系統主要包括真空泵和真空柱兩部分。
     真空柱是一個密封的柱形容器。
     真空泵用來在真空柱內產生真空。有機械泵、油擴散泵以及渦輪分子泵三大類,機械泵加油擴散泵的組合可以滿足配置鎢槍的SEM的真空要求,但對於裝置了場致發射槍或六硼化鑭槍的SEM,則需要機械泵加渦輪分子泵的組合。成象系統和電子束系統均內置在真空柱中。真空柱底端即為右圖所示的密封室,用於放置樣品。之所以要用真空,主要基於以下兩點原因:電子束系統中的燈絲在普通大氣中會迅速氧化而失效,所以除了在使用SEM時需要用真空以外,平時還需要以純氮氣或惰性氣體充滿整個真空柱。
為了增大電子的平均自由程,從而使得用於成象的電子更多。

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2、電子束系統
電子束系統由電子槍和電磁透鏡兩部分組成,主要用於產生一束能量分佈極窄的、電子能量確定的電子束用以掃描成象。

電子槍
電子槍用於產生電子,主要有兩大類,共三種。一類是利用場致發射效應產生電子,稱為場致發射電子槍。這種電子槍極其昂貴,在十萬美元以上,且需要小於10-10torr的極高真空。但它具有至少1000小時以上的壽命,且不需要電磁透鏡系統。另一類則是利用熱發射效應產生電子,有鎢槍和六硼化鑭槍兩種。鎢槍壽命在30~100小時之間,價格便宜,但成象不如其他兩種明亮,常作為廉價或標準SEM配置。六硼化鑭槍壽命介於場致發射電子槍與鎢槍之間,為200~1000小時,價格約為鎢槍的十倍,圖像比鎢槍明亮5~10倍,需要略高於鎢槍的真空,一般在10-7torr以上;但比鎢槍容易產生過度飽和和熱激發問題。

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電磁透鏡
熱發射電子需要電磁透鏡來成束,所以在用熱發射電子槍的SEM上,電磁透鏡必不可少。通常會裝配兩組:

匯聚透鏡:顧名思義,匯聚透鏡用匯聚電子束,裝配在真空柱中,位於電子槍之下。通常不止一個,並有一組匯聚光圈與之相配。但匯聚透鏡僅僅用於匯聚電子束,與成象會焦無關。
物鏡:物鏡為真空柱中最下方的一個電磁透鏡,它負責將電子束的焦點匯聚到樣品表面。

3、成像系統
電子經過一系列電磁透鏡成束后,打到樣品上與樣品相互作用,會產生次級電子、背散射電子、歐革電子以及X射線等一系列信號。所以需要不同的探測器譬如次級電子探測器、X射線能譜分析儀等來區分這些信號以獲得所需要的信息。雖然X射線信號不能用於成象,但習慣上,仍然將X射線分析系統劃分到成象系統中。

有些探測器造價昂貴,比如Robinsons式背散射電子探測器,這時,可以使用次級電子探測器代替,但需要設定一個偏壓電場以篩除次級電子。

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掃描電子顯微鏡 -工作原理
掃描電子顯微鏡光學顯微鏡、TEM、SEM成像原理比較
由電子槍發射的電子,以其交叉斑作為電子源,經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成能譜儀獲得。具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的微細電子束,在掃描線圈驅動下,於試樣表面 2 材料形貌分析觀察作柵網式掃描。聚焦電子束與試樣相互作 2.1 表面分析用,產生二次電子發射(以及其它物理信號),二 表面是指物體的盡端。表面分析是指用次電子發射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號被探測器收集轉換成電訊號,經視頻放大后輸入到顯像管柵極,調製與入射電子束同步掃描的顯像管亮度,得到反映試樣表面形貌的二次電子像 。

掃描電子顯微鏡 -發展歷史
掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM,圖2-17、18、19)於20世紀60年代問世,用來觀察標本的表面結構。其工作原理是用一束極細的電子束掃描樣品,在樣品表面激發出次級電子,次級電子的多少與電子束入射角有關,也就是說與樣品的表面結構有關,次級電子由探測體收集,並在那裡被閃爍器轉變為光信號,再經光電倍增管和放大器轉變為電信號來控制熒光屏上電子束的強度,顯示出與電子束同步的掃描圖像。圖像為立體形象,反映了標本的表面結構。為了使標本表面發射出次級電子,標本在固定、脫水后,要噴塗上一層重金屬微粒,重金屬在電子束的轟擊下發出次級電子信號。
掃描電子顯微鏡 -應用:

1 顯微結構的分析
在陶瓷的製備過程中 ,原始材料及其製品的顯微形貌、孔隙大小、晶界和團聚程度等將決定其最後的性能。掃描電子顯微鏡可以清楚地反映和記錄這些微觀特徵 ,是觀察分析樣品微觀結構方便、易行的有效方法 ,樣品無需製備 ,只需直接放入樣品室內即可放大觀察;同時掃描電子顯微鏡可以實現試樣從低倍到高倍的定位分析 ,在樣品室中的試樣不僅可以沿三維空間移動 ,還能夠根據觀察需要進行空間轉動 ,以利於使用者對感興趣的部位進行連續、系統的觀察分析。掃描電子顯微鏡拍出的圖像真實、清晰 ,並富有立體感 ,在新型陶瓷材料的三維顯微組織形態的觀察研究方面獲得了廣泛地應用。

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由於掃描電子顯微鏡可用多種物理信號對樣品進行綜合分析 ,並具有可以直接觀察較大試樣、放大倍數範圍寬和景深大等特點 ,當陶瓷材料處於不同的外部條件和化學環境時 , 掃描電子顯微鏡在其微觀結構分析研究方面同樣顯示出極大的優勢。主要表現為: (1)力學載入下的微觀動態 (裂紋擴展 )研究 ; (2)加熱條件下的晶體合成、氣化、聚合反應等研究 ; (3)晶體生長機理、生長台階、缺陷與位錯的研究; (4)成分的非均勻性、殼芯結構、包裹結構的研究; (5)晶粒相成分在化學環境下差異性的研究等。

 2 納米尺寸的研究

納米材料是納米科學技術最基本的組成部分 , 現在可以用物理、化學及生物學的方法製備出只有幾個納米的「顆粒 」 。納米材料的應用非常廣泛,比如通常陶瓷材料具有高硬度、耐磨、抗腐蝕等優點, 納米陶瓷在一定的程度上也可增加韌性、改善脆性等 , 新型陶瓷納米材料如納米稱、納米天平等亦是重要的應用領域。納米材料的一切獨特性主要源於它的納米尺寸 ,因此必須首先確切地知道其尺寸 , 否則對納米材料的研究及應用便失去了基礎。縱觀當今國內外的研究狀況和最新成果 ,目前該領域的檢測手段和表徵方法可以使用透射電子顯微鏡、掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡等技術 ,但高解析度的掃描電子顯微鏡在納米級別材料的形貌觀察和尺寸檢測方面因具有簡便、可操作性強的優勢被大量採用。另外如果將掃描電子顯微鏡與掃描隧道顯微鏡結合起來 ,還可使普通的掃描電子顯微鏡升級改造為超高解析度的掃描電子顯微鏡 。圖 2所示是納米鈦酸鋇陶瓷的掃描電鏡照片 ,晶粒尺寸平均為 20nm。

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3 鐵電疇的觀測

壓電陶瓷由於具有較大的力電功能轉換率及良好的性能可調控性等特點在多層陶瓷驅動器、微位移器、換能器以及機敏材料與器件等領域獲得了廣泛的應用。隨著現代技術的發展 ,鐵電和壓電陶瓷材料與器件正向小型化、集成化、多功能化、智能化、高性能和複合結構發展 ,並在新型陶瓷材料的開發和研究中發揮重要作用。鐵電疇 (簡稱電疇 )是其物理基礎 ,電疇的結構及疇變規律直接決定了鐵電體物理性質和應用方向。電子顯微術是目前觀測電疇的主要方法 ,其優點在於解析度高 , 可直接觀察電疇和疇壁的顯微結構及相變的動態原位觀察 (電疇壁的遷移 ) 。

掃描電子顯微鏡觀測電疇是通過對樣品表面預先進行化學腐蝕來實現的 ,由於不同極性的疇被腐蝕的程度不一樣 ,利用腐蝕劑可在鐵電體表面形成凹凸不平的區域從而可在顯微鏡中進行觀察。因此 ,可以將樣品表面預先進行化學腐蝕后 ,利用掃描電子顯微鏡圖像中的黑白襯度來判斷不同取向的電疇結構。對不同的鐵電晶體選擇合適的腐蝕劑種類、濃度、腐蝕時間和溫度都能顯示良好的疇圖樣。圖 3是掃描電子顯微鏡觀察到的 PLZT材料的 90°電疇 。

掃描電子顯微鏡 -與其他設備的組合以實現多種分析功能

在實際分析工作中,往往在獲得形貌放大像后 ,希望能在同一台儀器上進行原位化學成分或晶體結構分析 ,提供包括形貌、成分、晶體結構或位向在內的豐富資料 ,以便能夠更全面、客觀地進行判斷分析。為了適應不同分析目的的要求 ,在掃描電子顯微鏡上相繼安裝了許多附件 ,實現了一機多用 ,成為一種快速、直觀、綜合性分析儀器。把掃描電子顯微鏡應用範圍擴大到各種顯微或微區分析方面 ,充分顯示了掃描電鏡的多種性能及廣泛的應用前景 。

目前掃描電子顯微鏡的最主要組合分析功能有:X射線顯微分析系統 (即能譜儀 , EDS) ,主要用於元素的定性和定量分析 ,並可分析樣品微區的化學成分等信息;電子背散射系統 (即結晶學分析系統 ) ,主要用於晶體和礦物的研究。隨著現代技術的發展 ,其他一些掃描電子顯微鏡組合分析功能也相繼出現 , 例如顯微熱台和冷台系統 ,主要用於觀察和分析材料在加熱和冷凍過程中微觀結構上的變化;拉伸台系統 ,主要用於觀察和分析材料在受力過程中所發生的微觀結構變化。掃描電子顯微鏡與其他設備組合而具有的新型分析功能為新材料、新工藝的探索和研究起到重要作用。

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